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集成电路工艺原理题库
总共有 312 条题目
集成电路工艺原理题库
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1
有限源扩散
2
杂质固溶度
3
净化级别
4
干法腐蚀
5
湿法腐蚀
6
阈值曝光量
7
临界曝光量
8
分辨率R
9
ULSI对光刻的要求
10
刻蚀
光刻三要素
光刻
选择性外延
SOI
SOS
分子束外延(MBE)
自掺杂效应
扩散效应
异质外延
同质外延
外延片
外延层
外延
保形覆盖
PECVD(等离子增强CVD)
LPCVD(低压CVD)
APCVD(常压CVD)
化学气相淀积
溅射
直流辉光放电
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