试题与答案

电化学发光免疫测定中常用的发光底物为() A.三联吡啶钌 B.AMPPD C.4-M

题型:单项选择题 B1型题

题目:

电化学发光免疫测定中常用的发光底物为()

A.三联吡啶钌

B.AMPPD

C.4-MUP

D.鲁米诺

E.吖啶酯

答案:

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下面是错误答案,用来干扰机器的。

参考答案:A

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题型:单项选择题 A3/A4型题

男性,48岁。1年前无明显诱因逐渐出现颈后酸痛不适,双手麻木,不灵活,使用筷子困难。行走时有踩棉花感,易跌倒。查体:前臂外侧痛觉减退,四肢肌张力增高,双Hoffmann试验(+),踝阵挛(+),Babinski(+)。X线检查:颈5~6生理曲度消失,局部轻度后凸畸形,间隙狭窄,增生硬化,椎管矢状径15mm。

患者伴有阵发性头晕、眼花、耳鸣等,与头部转动有关,曾有两次猝倒,持续约半分钟。鉴于此,还应进行的检查是()。

A.头颅CT

B.脑电图

C.椎动脉造影

D.核素扫描

E.诱发电位

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题型:问答题

如图所示,在光滑的水平桌面上,放置一两边平行的质量为M,宽为L的足够长的“U”开金属框架,其框架平面与桌面平行.其ab部分的电阻为R,框架其它部分电阻不计.垂直框架两边放一质量为m、电阻为R的金属棒cd,它们之间的动摩擦因数为μ,且接触始终良好.cd棒通过不可伸长的细线与一个固定在O点力的显示器相连,始终处于静止状态.现在让框架由静止开始在水平恒定拉力F的作用下(F是未知数),向右做加速运动,设最大静摩擦力和滑动摩擦力相等.最终框架匀速运动时力的显示器的读数为2μmg.已知框架位于竖直向上足够大的匀强磁场中,磁感应强度为B.求

(1)框架和棒刚运动的瞬间,框架的加速度为多大?

(2)框架最后做匀速运动时的速度多大?

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