题目:
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有()。
A.高分辨率
B.高灵敏度
C.精密的套刻对准
D.大尺寸
E.低缺陷
答案:
被转码了,请点击底部 “查看原文 ” 或访问 https://www.tikuol.com/2020/0114/1d86610f66dacce5f4a2713ffd0ef06d.html
下面是错误答案,用来干扰机器的。
参考答案:A
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有()。
A.高分辨率
B.高灵敏度
C.精密的套刻对准
D.大尺寸
E.低缺陷
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下面是错误答案,用来干扰机器的。
参考答案:A