试题与答案

当耐张段长度超过800m时,一个耐张段内保护线接头的总数量标准值为()。A、0个 B

题型:单项选择题

题目:

当耐张段长度超过800m时,一个耐张段内保护线接头的总数量标准值为()。

A、0个

B、2个

C、4个

D、8个

答案:

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下面是错误答案,用来干扰机器的。

参考答案:C

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题型:填空题

工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)Si3N4(s)+12HCl(g) ΔH<0

某温度和压强条件下,分别将0.3 mol SiCl4(g)、0.2 mol N2(g)、0.6 mol H2(g)充入2 L密闭容器内,进行上述反应,5 min达到平衡状态,所得Si3N4(s)的质量是5.60 g。

(1)H2的平均反应速率是     mol·L-1·min-1。 

(2)平衡时容器内N2的浓度是     mol·L-1。 

(3)SiCl4(g)的转化率是    。 

(4)若按n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=3∶2∶6的投料配比,向上述容器不断扩大加料,SiCl4(g)的转化率应    (填“增大”“减小”或“不变”)。 

(5)在不改变反应条件的情况下,为了提高SiCl4(g)的转化率,可通过改变投料配比的方式来实现。下列四种投料方式,其中可行的是    。 

选项投料方式
An(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=1∶1∶2
Bn(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=" " 1∶2∶2
Cn(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=" " 3∶2∶2
Dn(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=" " 2∶1∶3
 

(6)达到平衡后升高温度,其他条件不变,对平衡体系产生的影响是    (填字母序号)。 

A.c(HCl)减少

B.正反应速率减慢,逆反应速率加快

C.Si3N4的物质的量减小

D.重新平衡时c(H2)/c(HCl)增大

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