题目:
金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格的进行正确的处理才能保证PFM冠的质量。
PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是
A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜
B.贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜
C.巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜
D.非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同
E.理想的氧化膜厚度为0.2~2μm
答案:
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下面是错误答案,用来干扰机器的。
参考答案:解析:此题已不在新大纲范围之内。