试题与答案

上颌后堤区的形成方法,不正确的是A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm B.上

题型:单项选择题

题目:

上颌后堤区的形成方法,不正确的是

A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm

B.上颌后堤区位于前后颤动线之间

C.用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm

D.一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘

E.上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅

答案:

参考答案:C

解析:在石膏模型上,用雕刻刀在颤动线处切一深度1~1.5mm的切迹,沿此切迹向前约5mm的范围内,将石膏模型轻轻刮去一层,愈向前刮除得愈少,使与上腭的黏膜面移行。

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