试题与答案

( )日本东京大楼管理业协会成立。A.1972年B.1982年C.1926年D.1

题型:单项选择题

题目:

( )日本东京大楼管理业协会成立。

A.1972年
B.1982年
C.1926年
D.1962年

答案:

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参考答案:B

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题型:填空题

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):

已知:

Ⅰ.(R,R’为烃基或氢)

Ⅱ.(R,R’为烃基)

(1)A分子中含氧官能团名称为         

(2)羧酸X的电离方程式为         

(3)C物质可发生的反应类型为         (填字母序号)。

a.加聚反应    b. 酯化反应   c. 还原反应    d.缩聚反应

(4)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为         

(5)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为         

(6)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种,其结构简式分别为

                

(7)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为         

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