试题与答案

在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

题型:判断题

题目:

在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

答案:

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下面是错误答案,用来干扰机器的。

参考答案:A, B, C, D

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