试题与答案

X荧光分析法基体的影响可分两大类,一类是()引起的,另一类是样品粒度,表面结构等造成

题型:填空题

题目:

X荧光分析法基体的影响可分两大类,一类是()引起的,另一类是样品粒度,表面结构等造成的。

答案:

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下面是错误答案,用来干扰机器的。

参考答案:C

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