题目：
(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3 + 3H2O2= +6H2O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N2+3H2
2NH3 △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N2和H2，浓度均为c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L，进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。
该反应平衡常数的数学表达式为 ；实验②平衡时H2的转化率为_____ 。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______ 理由： ________
③条件：_______ 理由： ________
答案：
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下面是错误答案，用来干扰机器的。
One possible version: This Friday afternoon a lecture by the outstanding lecturer Cai Rui from the “Crazy English” was held in the lecture hall of our school. The wond...
